新竹教授が、EUVリソグラフィの設計を検討している様子

机に向かい、コンピューター画面を見つめる科学者。画面には、高NA EUVリソグラフィー用プロジェクターの設計図が表示されている。

新竹教授は、光学シミュレーションシステム「OpTaliX」を用いて、EUVリソグラフィ光学システムの設計において、ミラーの正確な曲率と配置を算出している。

日付:
2026年6月16日
出典:
アンドリュー・スコット(OIST)
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