電子ビームリソグラフィ 装置

エリオニクス Boden 100 は、ナノ構造の作製および研究用途に適した、高精度かつ高解像度のパターニングが可能な最先端の電子ビームリソグラフィシステムです。

Apparatus which ressembles a column (electron beam housing), with fully enclosed sample area. Right side: control hardware rack (three units side by side).

エリオニクス Boden 100 は、ナノスケールの形状を直接描画するために最適化された高精度電子ビームリソグラフィシステムです。サーマルフィールドエミッター電子銃を搭載し、安定した電子ビームを提供することで、卓越した解像度と精度で複雑なパターンを作成できます。このシステムは、レジストでコーティングされた基板上を電子ビームで制御しながら走査することで、高いパターン忠実度、正確なアライメント、設計の柔軟性を必要とするアプリケーションに対応したマスクレスリソグラフィを実現します。様々なタイプやサイズの基板に対応しており、ナノフォトニクス、量子デバイス、ナノエレクトロニクス、材料科学の先端研究を支援します。外部 PC 上で動作する BEAMER および TRACER ソフトウェアを使用することで、露光前に複雑なレイアウト設計やデータ変換が可能です。システムには、完全密閉型の試料エリア、電子ビーム収容カラム、および 3 つのユニットからなる制御ハードウェアラックが含まれています。

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特徴

電子銃:熱電界エミッター
加速電圧:100 kV
ビーム電流:0 pA~100 nA
最小ビーム径:1.8 nm
最小線幅:6 nm
位置決め分解能:0.1 nm/ドット
フィールドステッチ精度:±10 nm
オーバーレイ精度:±10 nm
スキャンクロック:最大10MHz(10 ns)
書き込みフィールドサイズ:100 / 250 / 500 / 1000 μm
露光エリア:最夯210 × 210 mm
対応サンプル:5 × 5 mm~6インチウェーハー
対応ソフトウェア:BEAMER、TRACER、ELMS