電子ビームリソグラフィ 装置
特徴
電子銃:熱電界エミッター
加速電圧:100 kV
ビーム電流:0 pA~100 nA
最小ビーム径:1.8 nm
最小線幅:6 nm
位置決め分解能:0.1 nm/ドット
フィールドステッチ精度:±10 nm
オーバーレイ精度:±10 nm
スキャンクロック:最大10MHz(10 ns)
書き込みフィールドサイズ:100 / 250 / 500 / 1000 μm
露光エリア:最夯210 × 210 mm
対応サンプル:5 × 5 mm~6インチウェーハー
対応ソフトウェア:BEAMER、TRACER、ELMS