3D フォトリソグラフィシステム

Nanoscribe Photonic Professional GT は、マスクレスリソグラフィー、MEMS 製造、メタマテリアルおよびフォトニックデバイスの作製に適した高精度な 2 光子重合 3D プリンティングを実現します。

ENG-N6 nanoscribe

Nanoscribe Photonic Professional GT は、二光子重合法(2PP)を利用した高精度 3D プリンティングシステムで、卓越した解像度により複雑なマイクロ・ナノスケール構造を造形可能です。 結晶格子、多孔質足場、生体模伣デザイン、滑らかな輪郭、シャープなエッジ、アンダーカット、ブリッジなどの複雑な形状を造形でき、フォトニクス、マイクロ流体工学、生体医工学、材料科学など幅広い分閇で活用されています。 このシステムは、 2 つの動作モードを備えた超高速ガルボスキャナーベースのスキャンヘッド(「GT ユニット」)を特徴としています。 ピエゾモードでは、 3 軸ピエゾステージによる精密な 3 次元基板移動が可能であり、ガルボモードでは高速なレイヤーごとの造形を実現します。 IP フォトレジストシリーズ、SU8 、Ormocomp 、AZ9260 などの感光性材料に対応し、STL ファイルのインポートをサポートします。 油浸対物レンズを使用したディップイン・レーザー・リソグラフィー(DiLL)により、最大 200 μm (設計によっては 1 ミリメートルまで拡張可能)の高さの構造を造形可能です。

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特徴

・レーザー光源と光学系フェムト秒ファイバーレーザー
∗ 波長:780 nm ±10 nm
∗ パワー:120 mW
∗ 反復速度:80 MHz
倒立顕微鏡
∗ 油浸対物レンズ:63倍、NA=1.4、WD=190 μm
∗ カメラ:1.4メガピクセル
基板位置決めシステム
∗ ピエゾステージ:3軸(XYZ)
∗ 移動範囲:各軸300 μm
∗ 繰り返し精度:>= ± 5 nm
∗ 電動ステージ
∗ 軸数:2(XY)
∗ 移動範囲:各軸100 mm
∗ 繰り返し精度:>= ± 1 nm
基板ホルダー
消耗品
∗ IP-L780
∗ Ip-G780
∗ Ip-Dip
∗ カバースリップ
∗ DiLL基板
メソスケール構造書き込み用対物レンズ
∗ 油浸対物レンズ:25x, NA=0.8, WD = 390 μm