新竹教授の研究室にて
新竹積教授が市販の既製シリコンウェハーを手に取って観察している。背後には、インラインEUVリソグラフィに関するこれまでの設計で作られたプロトタイプが置かれている。現在は、高開口数EUVリソグラフィに対応する新たなインライン設計のプロトタイプ開発が進められている。
日付:
2026年6月16日
出典:
アンドリュー・スコット（OIST）
Copyright OIST (Okinawa Institute of Science and Technology Graduate University, 沖縄科学技術大学院大学). Creative Commons Attribution 4.0 International License (CC BY 4.0).
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