機材

Nanoscribe Photonic Professional GT は、マスクレスリソグラフィー、MEMS 製造、メタマテリアルおよびフォトニックデバイスの作製に適した高精度な 2 光子重合 3D プリンティングを実現します。

MLA 150は、2波長対応のマスクレスアライナーです。 高精度かつ高速なフォトリソグラフィーを実現し、表面および裏面のアライメントが可能です。 プロトタイピングや小規模生産に適した設計となっています。

二光子重合による　3Dプリンティング、マスクレスリソグラフィー、溶融シリカ内での　MEMS　部品およびマイクロ流体デバイスの高精度製造。

エリオニクス Boden 100 は、ナノ構造の作製および研究用途に適した、高精度かつ高解像度のパターニングが可能な最先端の電子ビームリソグラフィシステムです。