X線光電子分光法

高分解能の XPS 分析と表面化学状態イメージングに対応した表面分析装置。

ENG-N020 Ulvac phi quantes XPS

Ulvac PHI Quantesは、高精度な表面分析を目的として設計されたX線光電子分光(XPS)装置です。試料表面の数nm深さから放出される光電子のエネルギーを検出し、元素組成や化学状態を評価します。Al KαおよびCr Kαのデュアル単色X線源を搭載し、7.5~200 μmの領域に対して高分解能分析が可能です。深さ方向プロファイリング、化学マッピング、小領域・大領域の分析に対応し、自動荷電中和、モノマー/クラスタArイオン銃の切り替え、移送容器、加熱・冷却機構、自動長時間測定などの機能を備えています。

 

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特徴

・デュアル走査型X線源:Cr Kα(5.4 keV)/Al Kα(1.5 keV)
・高分解能二次電子イメージング(SXI)と正確な測定位置特定が可能
・測定領域:Al Kαで200~7.5 μm、Cr Kαで200~14 μm
・X線陽極位置をソフトウェア制御し、Cr KαとAl Kαを迅速に切り替え可能
・自動荷電中和、モノマー/クラスタArイオン銃、移送容器を装備
・昼夜連続の自動長時間測定に対応