電子ビーム蒸発器2

電子ビーム蒸着装置2は、電子ビームおよびジュール効果を利用した蒸発技術による薄膜製造のために設計された物理蒸着（PVD）システムです。 高真空環境下で動作するこのシステムは、集束電子ビームや高電流を使用してターゲット材料を蒸発させ、精密な材料蒸着を可能にします。 蒸発した材料は高真空中を飛行して基板上に凝縮し、膜厚や特性を制御した薄膜を形成します。 水晶振動子式膜厚計を使用したリアルタイムの膜厚モニタリングにより、正確な成膜が実現します。 このシステムは、光学コーティング、超伝導膜、先端機能性材料の製造を含む材料科学、ナノテクノロジー、半導体研究の用途に適しています。 ジュール効果と電子ビーム蒸着技術を組み合わせた物理蒸着システムです。