薄膜X線回折装置
Bruker D8 Discover XRD 薄膜X線回折装置は、薄膜の詳細な特性評価を目的に設計された高精度な分析装置です。 X線回折技術を活用し、格子間隔、結晶方位、相同定、残留応力解析などの結晶学的特性を精密に調査することが可能です。 このシステムは、微小角入射X線回折（GIXRD）、高分解能X線回折（HRXRD）、X線反射率（XRR）などの高度な手法に対応しており、薄膜のテクスチャー、微細構造、温度依存性の相転移研究に適しています。 その幅広い応用範囲は、材料科学、半導体研究、ナノテクノロジーにおいて理想的であり、薄膜の成膜プロセスや構造的完全性に関する重要な知見を提供します。 Bruker D8 Discover XRD 薄膜X線回折装置は、薄膜の詳細な分析用に設計された精密装置です。 薄膜に固有の構造および結晶学的特性に関する情報を提供します。
特徴
・1. 水冷式メタルセラミック製 X線管（Cu線源）と3kW発生器により、信頼性の高い高性能X線生成を実現 ・1.X線発生装置とX線管水冷式メタルセラミック X線管（Cu線源）およびX線発生器（最大 3 kW） ・2. ゴニオメーター：独立ステップヨ2theta動作の高精度２円ゴニオメーター ・3.試料ステージオイラー式クレードル試料台、真空チャックステージ、高温ドームステージ (DHS 1100、アントンパール社製)、温度範囲(25 ℃～1100 ℃) ・4.一次光学系ゲーベルミラー、Ge022モノクロメーター ・5.副光学系赤道儀、可変スリット、クリスタル1B ・6.検出器パスファインダー (0D)、Vantec-1 (1D)、Vantec 500 (2D)
